全球光刻胶供应紧张,国产替代有望加速

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        事件:日本信越化学KrF光刻胶产能不足,多家中国大陆晶圆厂受到影响,部分企业甚至被断供,国产KrF光刻胶迎来发展机遇。

        点评:

        国外光刻胶巨头产能受限,供需紧张。由于地震原因,全球五大光刻胶生产企业信越化学KrF光刻胶福岛工厂关闭,产能受限,限制对华出口光刻胶。同时由于全球晶圆厂新增产能较多,对光刻胶需求高涨,光刻胶供应持续紧张。预计到2024年,全球会新增22座8英寸晶圆厂,预计月产能将达到660万片。从国内市场看,中国大陆晶圆厂建设也迎来高速增长期,未来五年在中国大陆新建至少29座晶圆厂。

        光刻胶行业具有极高技术壁垒,呈现寡头垄断格局。光刻胶行业具有极高的行业壁垒,因此呈现寡头垄断的局面,长年被日本和美国专业公司所垄断。目前前五大厂商占据了全球光刻胶市场87%的份额,行业集中度极高。国内半导体光刻胶同国外先进技术差距较大,国外已经可以量产第五代极紫外光刻机用光刻胶,而我国在这一领域尚处在实验室阶段,最新的12英寸晶圆所用的ArF光刻胶在我国还处在研发阶段,8英寸晶圆所用KrF光刻胶国产化率仅为1%。

        国内光刻胶行业正在加速追赶.由于国外对我国封锁高端光刻胶生产工艺技术,我国光刻胶自给率非常低,半导体光刻胶国产化率仅为个位数。高端光刻胶为国外巨头所垄断的行情时刻对我国芯片制造形成威胁。由于光刻胶保质期较短(6-9个月),一旦发生突发事件,我国芯片制造即会受到威胁,因此国产化势在必行。国家也出台多项政策,鼓励高端光刻胶技术攻关。根据科技部资料显示,目前国内几家公司:晶瑞股份子公司苏州瑞红拥有达到国际先进水平的光刻胶工厂,是国内最早规模化生产光刻胶的企业之一,承担国家02专项项目,产品已经向中芯国际扬杰科技等公司供货。目前拥有i线光刻胶100吨/年,KrF光刻胶进入中试阶段;彤程新材参股子公司北京科华是唯一被SEMI列入全球光刻胶八强的中国光刻胶公司。同时投资5.7亿元在上海建设年产1.1万吨半导体、平板显示用光刻胶预计于2021年末建成投产。现在北京科华可实现i线光刻胶500吨/年、KrF光刻胶产能10吨/年,其参与的国家科技重大专项极紫外(EUV)光刻胶项目已通过验收;南大光电目前已经建成年产25吨193nm(ArF)光刻胶,其研发团队阵容强大,均为国内半导体光刻胶一线人员。上海新阳是承担国家“02专项”193nm光刻胶项目公司之一,公司是目前国内唯一可以生产12寸大硅片企业,目前已经取得的台积电供货商资质。容大感光十年前开始光刻胶的研发与产业化,目前光刻胶产品涵盖的主要领域为平板显示、发光二极管、半导体芯片等。

        风险提示:研发进度不达预期,海外技术封锁

以上内容节选自【首创证券】已经发布的研究报告《全球光刻胶供应紧张,国产替代有望加速》及公开信息,具体分析内容(包括风险提示等)请详见完整版报告。若因对报告的摘编产生歧义,应以完整版报告内容为准。

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