减少对日技术、材料依赖的紧迫性增强，关注国产替代

【SW化工】中日关系紧张的市场预期下，减少对日技术、材料依赖的紧迫性增强，关注材料端国产替代机会：

事件：1月6日，商务部公告，禁止所有两用物项对日本军事用户、军事用途，以及一切有助于提升日本军事实力的其他最终用户用途出口。

预计后续日本存反制预期，减少对日技术、材料依赖的紧迫性增强。

#半导体光刻胶，全球由日系以及杜邦主导，日本JSR、TOK、信越、住友等，日本占据主要市场；国产替代关注：彤程新材、鼎龙股份、恒坤新材、晶瑞电材、雅克科技（封装）等；

#面板光刻胶，韩国退出后市场由日本JSR、TOK、住友等主导；国产替代关注：雅克科技、彤程新材等；

#TMAH显影液，半导体级由日本TOK、美国三开化学主导；国产替代关注：格林达；

#环氧塑封料，全球半导体封装用塑封料由日本住友电木、力森诺科（原日立、昭和）等主导；国产替代关注：华海诚科、飞凯材料等；

#PI类材料，PI取向剂（JSR、日产化学等）、YPI（宇部等）、PSPI（东丽、旭化成等），国产替代关注：鼎龙股份、万润股份、艾森股份等；

#OLED发光材料，日本出光（蓝光）在全球占据核心地位；国产替代关注：莱特光电、万润股份等；

#TAC膜，全球TAC膜由日本富士胶片、柯尼卡、瑞翁主导；国产替代关注：天禄科技；

#高性能陶瓷，日本京瓷、TDK等占据全球主导地位；国产替代关注：国瓷材料；

EUV光刻胶日本垄断，上海新阳是A股唯一获EUV光刻胶发明专利国家授权的公司

2025年11月14日，上海新阳获得《一种EUV光刻胶及其制备方法和应用》发明专利授权，为国内鲜有的EUV光刻胶发明专利，公司成为A股唯一获EUV光刻胶发明专利国家授权的公司。

日本企业占全球光刻胶91%以上市占率，其中东京应化（TOK）掌握约全球市场25.1%，高阶EUV光刻胶更控制45.9%市场。

#EUV极紫外光刻胶几乎完全被日本TOK、JSR、信越、住友垄断。

EUV极紫外光刻与传统的光学光刻不同的是具有极低的波长，仅13 .5nm（365nm的I‑线、248nm KrF激光，当前应用最广泛193nm ArF激光）。

绝大多数元素都对极紫外光有很强的吸收，传统光刻胶无法适用，极紫外光刻胶体系具有较高的研发难度。

此前10月23日，我国首个EUV光刻胶标准《极紫外（EUV）光刻胶测试方法》立项公示，主要起草单位上海大学 、张江国家实验室 、上海华力 、上海微电子。

国家标准的出台有望加速EUV光刻胶国产化步伐，上海新阳拥有较好的区位和先发优势。

不仅如此，公司在ArF和KrF光刻胶进展顺利，Krf光刻胶从2022年实现销售，已有多款产品实现批量化销售，2025年销售规模持续增长有望达千万元规模，ArF 浸没式光刻胶已有销售订单。

公司有4台光刻机用于光刻胶研发，技术水平持续提升。

雅克科技：半导体前驱体材料、光刻胶等放量助力公司业绩快速增长

UPChemical长期专注于半导体材料前驱体领域，在高介电常数（High-K）半导体材料领域占据全球领先地位，其产品广泛应用于高端制程下DRAM芯片制造工艺以及先进的3DNAND制造工艺，下游包括SK海力士等客户，先进制程High-K前驱体材料已经在国内头部客户中应用。

UPChemical高介电常数前驱体产品主要是铪基、锆基以及铝基化合物为主，客户利用产品生成相应的氧化物薄膜，形成集成电路中的电容介质或栅极电介质。

此外公司正在规划和积极布局前驱体金属原材料的国产化，开发新型CVD/ALD用前驱体材料，扩大公司在前驱体材料行业的竞争优势。

公司2025年前三季度实现营收64.67亿元，同比增长29.36%，归母净利润7.96亿元，同比增长6.33%，扣非后归母净利润7.97亿元，同比增长4.74%。

其中第三季度实现营业收入21.74亿元，同比增长24.75%，环比减少0.07%，归母净利润2.7亿元，同比增长19.24%，环比增长4.12%。

来源：文八股调研纪要