光刻机，最核心的10家企业梳理（附名单）

半导体制造的“卡脖子”核心，国产替代正当时

光刻机：是芯片制造的“心脏”设备，通过极紫外光或深紫外光将电路图案高精度“雕刻”到晶圆上，其技术复杂度涵盖超10万个零部件，直接决定芯片制程的先进程度。当前国产28nm浸没式DUV光刻机进入量产关键期，叠加全球晶圆厂扩产潮，产业链核心企业迎来从技术突破到业绩释放的黄金窗口。

催化事件：英特尔宣布与ASML成功验收首台量产型光刻机，吞吐量达每小时175片晶圆，套刻精度提升至0.7nm，推动2nm以下芯片制造进程。而在国内市场，光刻机作为晶圆制造最核心设备，当前国产化率不足5%，但国内产业链在光学系统、光源及双工件台等核心环节已实现技术突破，国产替代进程有望加速。

接下来，题材君将从光刻机业务布局和核心潜力亮点两个维度，为大家梳理10家具备技术壁垒与增长弹性的核心标的。

第一家：张江高科

光刻机：国内光刻机整机研发核心资本载体，作为上海微电子第一大股东（持股10.78%），主导产业链生态整合与资源协同，深度绑定国内唯一光刻机整机龙头。

核心亮点：依托国家大基金三期扶持，是国产光刻机产业化落地的关键枢纽，直接受益于28nm光刻机量产进程；中央汇金重仓持仓，机构认可度高，在产业链价值传导中占据核心地位，成长确定性强。

第二家：奥普光电

光刻机：背靠中科院长春光机所的“国家队”平台，承担国家02专项光刻机物镜系统研发任务，供应纳米级光刻机工作台与干涉仪，定位精度达纳米级。

核心亮点：光刻机工作台国内市占率超60%，深度参与EUV光学系统研发，获首台套政策专项资金支持；随国产光刻机国产化率向30%跨越，技术转化与商业化进程加速，订单增量明确。

第三家：茂莱光学

光刻机：超精密光学元件龙头，为光刻机提供物镜系统的透镜、棱镜等核心部件，产品覆盖DUV/EUV领域，技术精度达纳米级，部分通过ASML认证。

核心亮点：国产光刻设备厂商核心光学模组供应商，2024年半导体业务收入同比增50%，毛利率超60%；DUV领域研发成果已产出试验件，将直接承接国产设备放量带来的增量需求。

第四家：福晶科技

光刻机：全球激光晶体绝对龙头，供应光刻机光源核心材料LBO、BBO晶体，是光源系统关键元器件，占据全球80%的市场份额。

核心亮点：国产唯一可提供高性能激光晶体的企业，深度绑定全球光源设备厂商；国内DUV量产及EUV光源研发推进（哈工大DPP路线EUV光源已实现120瓦实用化），需求持续攀升，处于“卖铲人”稀缺赛道。

第五家：波长光电

光刻机：国内DUV光刻机投影物镜量产龙头，110nm分辨率物镜已稳定用于上海微电子产线，EUV级物镜进入中试阶段，同时供应准分子激光器光学元件。

核心亮点：2025年Q2新增光刻机镜头订单同比增220%，在模拟芯片制造扩产与国产设备突破驱动下，订单放量确定性极高；已形成从研发到量产的完整能力，契合国产化核心需求。

第六家：赛微电子

光刻机：为ASML供应透镜系统MEMS核心部件，技术认可度领先；通过参股芯东来切入光刻机整机业务，形成“核心部件+整机布局”双轨模式。

核心亮点：MEMS镜片成功打入ASML供应链，同时配套国产光刻设备；上海微电子28nm光刻机国产化率提升至90%，带动订单规模持续扩大，EUV相关研发打开长期成长空间。

第七家：蓝英装备

光刻机：光刻机晶圆清洗设备国产替代唯一龙头，瑞士子公司为ASML提供EUV清洗设备，精度达0.1um以下，同时供应中芯国际、长江存储等头部晶圆厂。

核心亮点：清洗环节是光刻工艺前置刚需，直接影响良率；2025年国产光刻机量产带动晶圆厂扩产，清洗设备需求爆发，公司半导体业务占比持续提升，技术协同效应显著。

第八家：新莱应材

光刻机：高端真空与气体管路系统领军企业，产品用于光刻机真空腔体和气体传输，解决气路污染“卡脖子”问题，稳定进入中芯国际、长江存储供应链。

核心亮点：2025年光刻机相关订单同比增120%，受益于上海微电子28nm光刻机测试推进及量产预期；全资子公司增资扩产突破产能瓶颈，社保基金增持彰显长期价值。

第九家：富创精密

光刻机：经ASML认证的光刻机反应腔精密金属件供应商，产品作为光刻机“骨架”，加工精度与材料稳定性达国际标准，客户涵盖ASML、AMAT等全球巨头。

核心亮点：受益于国产光刻机国产化率提升与全球扩产双重驱动，订单增长确定性强；2025年产能释放与毛利率提升形成共振，成长空间广阔。

第十家：同飞股份

光刻机：光刻机激光器温控设备唯一国产供应商，热管理技术达国际先进水平，可实现±0.1℃内温差控制，保障光源稳定性与光刻精度。

核心亮点：温控系统是光刻机核心配套设备，技术具备排他性优势；深度绑定国内设备厂商，随DUV量产及EUV研发推进，需求持续增加，业绩增长确定性强。

附光刻机产业链图表：

光刻机赛道正处于国产替代与全球扩产的双重风口，已从技术研发阶段逐步迈入产业化兑现期。短期来看，28nm DUV光刻机的量产交付将直接驱动核心部件与配套设备企业的订单放量；长期而言，EUV技术突破与全产业链国产化率提升，将为具备核心技术壁垒、深度绑定头部客户的企业打开千亿级成长空间，当前正是布局这一高潜力赛道的关键窗口期。

声明：本文仅为行业与企业信息梳理，不构成任何投资建议、交易引导，仅供交流参考。市场存在不确定性，投资决策请基于独立判断与风险评估。

来源：逻辑题材君