华建集团23亿封死跌停！肩负光刻机研制独角兽——上海微电子深度介绍（附相关企业）

10月21日，华建集团发布公告称，自上海国投公司回函出具日（2025年10月21日）起，在未来12个月内，上海国投公司不存在涉及公司的重大资产重组、资产注入的安排。而此前连续大涨，炒作的是上海微电子借壳。

上海微电子装备(集团)股份有限公司(下称“上海微电子”)是国内公开承认肩负光刻机研制的公司。其用于制造90纳米芯片的干式DUV（深紫外）光刻机已经实现量产。据证券时报报道，上海微电子28纳米浸没式DUV光刻机也进入产品验证阶段，但EUV（极紫外）光刻机仍处于预研阶段（2025年度中国国际工业博览会，上海微电子首次公开EUV光刻机参数图），需突破光源、光学系统等核心技术。

公司于2002年在张江高科技园区正式成立，旨在攻克光刻机这一芯片制造的核心技术。

2009年12月首台先进封装光刻机产品SSB500/10A交付用户，打破了国外垄断。

2012年，SSB500系列先进封装光刻机实现海外销售。

2016年6月首台暨国内首台前道扫描光刻机交付用户。

2017年4月公司承担的国家02重大科技专项任务“浸没光刻机关键技术预研项目”通过了国家正式验收。

2017年10月公司承担的02重大科技专项“90nm光刻机样机研制”任务通过了02专项实施管理办公室组织的专家组现场测试。

2018年3月90nm光刻机项目通过正式验收，公司作为国内光刻机整机制造厂商，引领国内光刻机制造发展。

2022年，公司举行了首台2.5D/3D先进封装光刻机的发运仪式，标志着技术在不断升级。

今年9月24日，根据21世纪经济报道消息，21世纪经济报道记者在上海国家会展中心举办的第二十五届中国国际工业博览会上看到，上海微电子（SMEE）展台上首次公开亮相极紫外（EUV）投影微场曝光装置，及其部分技术内容的对外披露。

02、核心业务

公司是国产光刻机巨头，致力于半导体装备、泛半导体装备、高端智能装备的研发制造、销售及技术服务。产品包括光刻设备、集成电路制程设备、平板显示制程设备、光学量/检测设备四类。主要产品为半导体产业高端投影光刻机，应用于集成电路前道、先进封装、FPD面板、MEMS、LED、PowerDevices等制造领域。

公司光刻机产品可用于平板显示、先进封装、新型化合物半导体器件、MEMS和集成电路前道芯片制造环节。

• 在TFT曝光应用领域，200系列光刻机（SSB200系列）采用先进投影光刻机平台技术，专用于AM-OLED和LCD显示屏TFT电路制造，适用于2.5代～6代TFT显示屏量产线，具备高分辨率、高套刻精度等特性，支持6英寸掩模，能显著降低用户使用成本，分辨率为1.5-2μmL/S。
• 在LED、MEMS、PowerDevices制造领域，300系列光刻机（SSB300系列）是步进投影光刻机，面向6英寸以下中小基底先进光刻应用领域，满足HB-LED、MEMS和PowerDevices等领域单面或双面光刻工艺需求，分辨率为0.8-1.5μm，光源为Iline。
• 在IC后道先进封装领域，500系列光刻机（SSB500系列）是步进投影光刻机，主要应用于200mm/300mm集成电路先进封装领域，包括FlipChip、Fan-InWLP、Fan-OutWLP和2.5D/3D等先进封装形式，可满足Bumping、RDL和TSV等制程的晶圆级光刻工艺需求，分辨率为1-2μm，光源为ghiline/ghline/Iline，适用于200/300mm规格。
• 在IC前道制造领域，600系列光刻机（SSX600系列）是步进扫描投影光刻机，采用四倍缩小倍率的投影物镜、工艺自适应调焦调平技术，以及高速高精的自减振六自由度工件台掩模台技术，可满足IC前道制造90nm、110nm、280nm关键层和非关键层的光刻工艺需求，可用于8寸线或12寸线的大规模工业生产，分辨率为90-280nm，光源为ghi-line/ghline/i-line，适用于200/300mm规格。

03、行业格局

全球光刻机市场呈现出明显的寡头垄断格局。ASML、Nikon和Canon三家公司长期占据全球光刻机市场的主导地位。其中，ASML凭借其在高端光刻机领域的技术优势，2024年占据了全球光刻机市场61.2%的份额，特别是在EUV光刻机领域，ASML是全球唯一的供应商。尼康和佳能则主要集中在中低端光刻机领域。

历经长期发展，ASML把握浸没式机遇后来者居上，成为当前光刻机行业的绝对龙头。尼康和佳能作为老牌光刻机厂商，占据先发优势，但面对当时如何突破193纳米波长的瓶颈的难题时，科学界和光刻机产业界都积极寻求超越它的方案。最终，在ASML和台积电的通力合作下，率先将193纳米浸润式光刻机生产出来，也正是这一领先尼康三年的新产品，让ASML彻底赢得了光刻机绝大部分的市场份额。此后，在2013年ASML推出第一台EUV量产产品，进一步加强行业垄断地位,截至目前，ASML依然是EUV光刻机全球唯一供应商，奠定了光刻机高端领域当之无愧的霸主地位。

芯语援引SEMI 数据显示，中国大陆是全球产能扩张最积极的地区之一，2024 年产能同比增长 15%至月产 885 万片晶圆，增量主要来自 18 座新建晶圆厂投产，单一地区贡献了当年全球 6%的产能扩张。据芯语援引 Yole Group 数据，2024 年中国大陆晶圆代工产能占全球比重达 21%，已成为全球第二大晶圆制造基地。受此拉动，2024 年中国大陆成为全球 ASML 光刻机最大采购方，大陆客户收入占比已从 2021 年的 16%增长至 2024 年的 41%，单一市场地位日益突出。

04、国产化有望加速

据头豹研究院数据，2022 年光刻机国产化率不足 1%，是半导体设备中国产化程度最低的环节。

中国光刻机研发最早可追溯至1966 年第一台接触式设备的诞生，但 90 年代初期产业一度停滞，市场高度依赖进口。2002 年，光刻机被纳入“863 重大科技攻关计划”，同年上海微电子成立，2007 年研制出90nm 分布式投影光刻机，为后续发展奠定基础。

2008 年启动的“极大规模集成电路制造装备与成套工艺专项”（02 专项），通过体系化布局曝光光学系统、双工件台、光刻胶等关键环节，其中由上海微电子负责光刻机整体的系统设计和系统集成，由长光所牵头负责物镜系统的研发，上光所负责照明系统的研发，两者一起组成光刻机的曝光光学系统；清华大学牵头负责光刻机双工件台设计；浙江大学牵头负责研发光刻机浸液系统。

光刻机整体构成包括产业链多个环节：

光源系统：光源是光刻机的核心部分，负责产生用于曝光的光线。光刻机常用的光源包括深紫外光（DUV）、极紫外光（EUV）。光源的选择直接影响曝光的分辨率和效果，因此光源的强度和稳定性非常重要。

光学系统：光学系统负责将光源发出的光线聚焦到硅片上。光刻机的光学系统组件组成包括透镜和反射镜、光束整形器、光学测量系统。

掩模（掩膜）：掩模是光刻过程中的关键元素，其上刻有电路设计图案。掩模的组成和功能包括：掩模版、图案设计。

硅片载台：硅片载台用于固定和精确移动硅片，以确保光刻过程的准确对齐。载台的主要功能包括对准机制、运动控制。

光刻胶系统：光刻胶是涂布在硅片表面的光敏材料，其性能直接影响光刻过程的效果。光刻胶系统的组成包括光刻胶涂布装置、光刻胶显影液。

控制系统：光刻机的控制系统负责整个光刻过程的自动化和监控。其主要功能包括参数设置、实时监控、数据处理与反馈。

后处理系统：光刻机的后处理系统主要负责将光刻后的硅片进行进一步处理。后处理步骤通常包括刻蚀设备、清洗系统。

其他辅助设备：光刻机还包括一些辅助设备，如冷却系统、排气系统等。

05、相关企业

海立股份：海立集团与微电子装备集团以封装光刻机得冷却系统配套为起点，进一步提升合作能级，逐步从零部件级供应合作提升为系统级供应合作。公司控股子公司海立特冷有销售光刻机用冷却系统。同时，公司控股股东为上海电气且2021年10月26日公司官网，公司与上海微电子装备集团举行战略合作协议签约仪式。

上实发展：14日公告称，实际控制人上海市国资委将其持有的上实集团100%股权，调整至上海上实全资子公司金钟控股持有，从而使得上海上实间接控制公司的股份从原有的6.06%增至56.18%，成为公司的间接控股股东。上实发展持有上海信投=10.07%，上海信投持有上海泰力24%，上海泰力持有上海微电子6.667%。最终间接持股比例约0.029%。

电气风电：其与上海微电子同属上海电气集团，最终控制人均为上海国资委，主营业务为风力发电设备设计、研发、制造和销售以及后市场配套服务。公司是中国领先的风电整机制造商与服务商，也是中国最大的海上风电整机制造商与服务商。

张江高科：通过其全资子公司上海张江浩成创业投资有限公司，直接持有上海微电子10.779% 的股权，是上海微电子的第二大股东。

上海电气：其母公司上海电气控股集团是上海微电子的第一大股东，持股比例约32%。需要注意的是上海电气上市公司本身并不直接持有上海微电子的股份。

东方明珠：持有上海信投21.3333% 的股权，上海信投的全资子公司上海泰力产业投资管理有限公司持有上海微电子 8.1218% 的股权，东方明珠间接持股比例约为 1.73%。

上海机电：上海电气直接持有上海机电48.02% 的股权。同时，上海电气控股集团也是上海微电子的第一大股东，持股比例约 32%，这使得上海机电和上海微电子成为同一控股股东旗下的兄弟企业。

产业链合作企业

茂莱光学：为上海微电子提供光刻机中照明系统和投影物镜系统的整套光学元器件，技术精度达纳米级，其光学器件已成功进入上海微电子的供应体系。

福晶科技：是全球非线性光学晶体的领军企业，为上海微电子的DUV 光刻机和 EUV 光源研发提供核心材料，如 LBO、BBO 晶体等。

苏大维格：已向上海微电子提供了其半导体领域投影式光刻机用的定位光栅部件，该部件用于光刻机的双工件台系统，刻划精度可达±1nm，打破了 ASML 的垄断。

炬光科技：为上海微电子提供光场匀化器，用于光刻机的曝光系统，同时也长期为荷兰ASML 的高端光刻机提供同类核心元器件。

创元科技：其全资子公司江苏苏净为上海微电子提供空气净化系统及技术服务，应用于上海微电子的洁净车间。

富创精密：根据公司招股说明书及市场数据，富创精密的结构零部件，如基板、冷却板等，已应用于上海微电子的光刻机及涂胶显影设备中。

同飞股份：其液体恒温设备可应用于光刻机等半导体制造设备，已逐步拓展了包括上海微电子在内的多个合作伙伴。

（特别说明：文章中的数据和资料来自于公司财报、券商研报、行业报告、企业官网、百度百科等公开资料，本报告力求内容、观点客观公正，但不保证其准确性、完整性、及时性等。文章中的信息或观点不构成任何投资建议，投资人须对任何自主决定的投资行为负责，本人不对因使用本文内容所引发的直接或间接损失负任何责任。）

来源：策金说