华为“核弹级”突破！北方华创，啃下9200亿蛋糕

近期，华为有一重大技术突破！

在上海国际半导体展览会上，华为携手新凯来，凭借“先进光刻+非光补光”技术路线，在EUV光刻的替代方案上取得了关键进展。

这一突破对华为而言，堪称“久旱逢甘霖”，意义非凡。

长久以来，华为在高端芯片领域的发展备受外部限制，华为与半导体设备商新凯来合作的技术突破，犹如一道前行之路中的曙光。

业内预测，最快今年下半年，最晚明年年初，国产高端光刻机有望问世，这将助力华为早日实现5纳米芯片的量产。

这一技术突破，对整个半导体设备市场而言，无疑是注入了一剂“强心针”。

国际半导体设备与材料协会（SEMI）发布的市场预测报告显示，2024年全球半导体设备市场规模达到7880亿元，同比增长3.4%，创下历史新高。

随着华为与新凯来在光刻机技术上取得突破，预计未来几年，半导体设备市场规模将迎来爆发式增长。

有机构预测，未来3年，全球半导体设备市场规模有望增长17%，达到9218亿元。

其中国内半导体设备销售额就有望从2023年的2646亿元增长到2027年的4755亿美金，复合年均增长率达15.8%。

在这波华为芯片技术突破浪潮中，国内半导体设备领域的领军企业——北方华创，有望从中受益明显。

北方华创业务广泛，在半导体设备多个关键领域都有布局，产品包括多种设备，这些设备在芯片制造中不可或缺。

在刻蚀设备方面，它就像芯片制造的“雕刻大师”，能精准去除不需要的半导体材料，留下精确电路图案。

2024年，北方华创在国内刻蚀设备市占率达35%左右（数据来源：IC Insights《2024年全球半导体设备市场报告》）。

和美国泛林半导体、应用材料等国际巨头比，虽整体市场份额有差距，但技术水平追赶迅速，在特定工艺和场景下，性能已能与之媲美，比如在先进制程芯片刻蚀工艺中，能实现高精度、高均匀性刻蚀，满足5纳米及以下制程芯片制造部分需求。

在薄膜沉积设备领域，就如同给芯片披上“防护衣”，北方华创的产品包括物理气相沉积（PVD）设备、化学气相沉积（CVD）设备等。

2024年，其在国内薄膜沉积设备市占率约20%（数据来源：SEMI《2024年全球半导体薄膜沉积设备市场分析报告》）。

在全球市场，与美国应用材料等领先企业相比，北方华创通过持续技术创新，在部分技术指标上达到国际先进水平，像在存储芯片制造中，其CVD设备能沉积高质量薄膜。

在清洗设备这块，它好比芯片的“清洁卫士”，北方华创的清洗设备在国内市场地位重要。

2024年，其在国内清洗设备市占率达25%左右（数据来源：Gartner《2024 年全球半导体清洗设备市场研究报告》）。

技术上，采用先进工艺，能有效去除芯片表面污染物，且不损伤芯片，和日本迪恩士等国际知名品牌相比，性价比优势明显。

随着华为的技术突破之后，高端国产芯片有望量产，国产半导体设备需求也将增长，北方华创作为半导体设备龙头将最终受益。

除了行业的东风，北方华创还直接与华为合作，这也是受益的原因之一。

华为在芯片设计领域堪称翘楚，麒麟、昇腾芯片等设计实力领先；而北方华创在芯片制造设备领域的深厚底蕴，与华为形成了绝佳互补。

双方一拍即合，在攻克芯片制造技术难题方面合作成果显著。

就拿7纳米芯片制造来说，针对刻蚀精度、薄膜沉积质量等难题，双方团队携手开展了大量研发实验，成功将7纳米芯片制造的良品率提升了20%。

据行业权威媒体《半导体行业观察》报道，北方华创已与华为就适配新光刻技术的刻蚀设备升级达成合作协议，预计升级后的刻蚀设备将使芯片制造的精度提升10%。

这无疑将推动芯片制造技术迈向新高度，也助力北方华创开拓更多高端芯片制造设备市场。

在供应链层面，北方华创还是华为芯片制造设备的关键供应商。

在复杂的国际形势下，美国对华为实施技术封锁，北方华创凭借自身强大的研发与生产能力，保障了华为芯片生产的稳定运行。

公开数据显示，北方华创提供的刻蚀设备、薄膜沉积设备等，已覆盖华为芯片制造流程中70%的关键环节。

除此之外，北方华创与华为共同组建联合研发实验室，助力攻关芯片制造前沿技术和关键难题。

双方合作开发出的新型芯片封装工艺，应用在华为的部分高端芯片产品后，成功使芯片集成度提高15%，功耗降低10%。随着华为与新凯来的技术突破，联合研发团队顺势在更多关键领域深入探索。

不过，从短期看，北方华创也面临挑战，技术量产存在不确定性，工艺与良品率有待验证。同时，国际市场竞争激烈，北方华创需持续投入资源，应对技术竞争与份额冲击。

但长期来看，若华为能顺利实现5nm芯片量产，半导体设备市场必将迅猛增长。相信未来，北方华创携手华为一同突破国产半导体产业的技术封锁！

以上分析不构成具体买卖建议，股市有风险，投资需谨慎。

来源：投研小院