大V说
2025-03-04
光刻机“黄金十年”
中国光刻机市场以年均15%复合增长率狂奔,2025年规模预计达250亿元,2030年或冲击500亿大关。
国产替代窗口期:高端光刻机进口依赖度超90%,但中低端市场国产化率已提升至50%以上,政策驱动下(如《中国制造2025》),国产设备渗透率将持续攀升。
EUV成制高点:荷兰ASML垄断全球EUV市场,但中国正加速光源、光学系统等核心环节攻关,上海微电子的28nm DUV光刻机已量产,国产EUV原型机研发提上日程。
产业链协同突围:从光源、光学器件到控制系统,国内企业正以“蚂蚁雄兵”战术分食全球供应链。例如,福晶科技的光学晶体、茂莱光学的精密镜头已打入ASML供应链。
产业链企业全景扫描
整机组装:国产化的“扛旗者”
持股上海微电子10.779%
主营业务:通过资本运作支撑上海微电子(国内唯一整机厂商)研发。
核心亮点:绑定国家战略,上海微电子的28nm DUV光刻机已商用,下一代技术瞄准14nm。
增长潜力:受益国产替代政策,未来5年营收CAGR或超30%。
上海电气
母公司为上海微电子第一大股东
战略定位:以资金和制造能力为上海微电子提供产业链协同,主攻光刻机机械结构件。
光源系统:光刻机的“心脏”
福晶科技(全球最大LBO/BBO晶体供应商)
主营业务:激光晶体材料,用于光刻机光源系统。
核心亮点:全球市占率超60%,直接供货ASML,技术壁垒极高。
增长潜力:随EUV普及,高端晶体需求爆发,未来3年利润CAGR或达25%。
光刻机平行光源系统
技术突破:DUV光源国产化核心供应商,已进入中芯国际供应链。
光学器件:精度决定成败
茂莱光学(精密光学器件)
核心产品:光刻机物镜、分光镜,国产替代标杆企业。
技术壁垒:纳米级加工精度,客户覆盖ASML、上海微电子。
增长逻辑:国产光刻机放量+海外订单,营收CAGR或超40%。
多波段合分束器
应用场景:光刻机光路系统核心元件,打破海外垄断。
洁净设备与温控:芯片制造的“隐形冠军”
精密清洗设备
市场地位:国内唯一能提供28nm制程清洗设备的企业,客户包括台积电、中芯国际。
增长驱动:半导体扩产潮下,设备需求激增,未来3年订单CAGR或达50%。
液体恒温设备
技术优势:光刻机温度控制精度达±0.01℃,国产替代率不足10%,成长空间巨大。
其他关键环节
赛微电子(MEMS透镜):全球唯二能量产光刻机微透镜的企业,技术独步亚洲。
炬光科技(光场匀化器):EUV光刻机核心元件,国内唯一供应商,毛利率超60%。
未来十年
国产替代加速:政策补贴+技术突破,中低端市场国产化率或超70%,高端市场逐步破冰。
技术联盟崛起:如上海微电子+上海电气的“整机联盟”,福晶+茂莱的“光学联盟”,协同对抗ASML垄断。
细分赛道爆发:光学器件、洁净设备等环节技术门槛高、国产化率低,头部企业将享受超额收益。
光刻机之战,不仅是技术之争,更是国运之争。
这场战役的终局,或将由那些在细分领域死磕技术的“隐形冠军”们共同书写。而我们要做的,就是找到这些“蚂蚁雄兵”,等待他们成长为“大象”。
来源:绿能研究所
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