光刻机产业链梳理

来源：光大证券

光刻机是光刻工艺的核心设备，主要由光学系统、机械系统和控制系统构成。目前市场上的光刻机主要分为g-line、i-line、KrF、ArF、EUV五代迭代更新，其中g-line逐渐被市场淘汰，第五代EUV光刻机的最小工艺节点达到了最优。在光刻机的更新迭代中，对光源、光学透镜、反射镜系统提出了越来越高的要求。

光刻机产业链复杂，全球光刻机市场快速增长。光刻机产业链较为复杂，主要包括上游设备及材料、中游光刻机生产及下游刻机应用三大环节。

目前市场主流产品基本来自ASML、Nikon和Canon。三家企业光刻机出货量由2015年的281台增长至2022年的551台，CAGR达10.10%；销售收入由2019年的945亿元增长至2022年的1318亿元，CAGR达11.73%。其中ASML占据绝对的龙头地位，垄断高端EUV市场。

上海微电子是大陆光刻机进展最快的厂商，其自主研发的600系列光刻机可批量生产90nm工艺的芯片。但是在技术层面，上海微电子的IC前道光刻机与国际先进水平差距仍较大。上海微电子装备有限公司已量产的光刻机中性能最好的最高可实现90nm制程节点，ASML的EUV 3400B制程节点可达到5nm。这也使得在IC前道光刻机市场，国产制造比例较低，国内的IC前道光刻机市场主要被ASML、Nikon和Canon瓜分。

不过，中国逐步在光刻机产业链中实现部分突破。在光刻机产业链上游，中国初 步突破了光刻机的双工作台（华卓精科）、光源（科益虹源、福晶科技）和光学 镜头（奥普光电）三大核心子系统。在中游，上海微电子是国内技术最领先的光 刻设备厂商；在下游，中芯国际是全球领先的集成电路晶圆代工企业之一。